【速報】 日本が半導体製造2nmプロセスに突入、世界市場シェア100％技術ばかり…長年蓄積された強さ、強すぎる (中国紙) [お断り★]

1 ：お断り ★：2021/03/29(月) 15:21:03.36 ID:hwgSW+8x9.net

2nmプロセスが日本で出ています！長年蓄積されたこの強さ、強すぎる

日本の半導体業界に関して言えば、業界のほとんどの人は自分たちの長所と短所を十分に理解しています。
利点の点では、それらの半導体機器、材料、受動部品、無線周波数、さらにはパワーデバイスは世界最高です。
たとえば、現在人気のある第3世代半導体、5G無線周波数、EUVフォトレジストでは、他の競合他社にはない利点があります。

2nmの戦い

彼らはキヤノン、東京エレ、SCREENなどの地元の大手機器メーカーとも協力して活性化する日本の高度な研究開発を行います。
報道によると、経済産業省からの資金援助を受けるべきこの研究開発チームは、2020年代半ばに2nm以降の次世代半導体の製造技術を確立し、開発するためのテスト生産ラインを設置することを目指しています。微細回路の加工や洗浄などの製造技術。

日本には工場はありませんが、高度なプロセスの上流工程で非常に重要な立場を持っています。ホットEUVリソグラフィーを例にとると、オランダの会社ASMLが世界をリードするEUVリソグラフィーマシンを提供できることは誰もが知っています。

これまでの半導体業界の観察報告では、この分野の複数のリンクで日本企業の強みを見ることができます。

まず、欠陥検出装置を見てください。元の回路基板としてフォトマスクに欠陥があると、それに応じて半導体の欠陥率が増加します。

近年、特にEUVフォトマスク（フォトマスクおよび半導体回路用マスク）検査装置の需要拡大が見られます。この分野では、日本のレーザーテック株式会社が世界で唯一の試験装置メーカーであり、レーザーテックは世界市場100％を占めています。

もう1つの日本での100％の市場シェアは、開発用の半導体材料としてシリコンウェーハに特殊な化学液体を塗布するために使用される東京エレクトロニクスのEUVコーティングおよび開発装置です。東京電力は1993年にFPD生産設備コーター/開発者の販売を開始し、2000年には1,000人のコーター/開発者「CLEANTRACKACT8」を納入しました。

EUVフォトレジストに関しては、日本の市場シェアははるかに進んでいます。今年3月にナンダオプトエレクトロニクスが発表した関連レポートによると、下図に示すように、この分野での強みを示すEUVフォトレジストを開発しているのは世界の日本メーカーだけです。

高度なプロセスの研究開発に関しては、もう1つの重要なリンクがあります。それは、このセクションの冒頭で述べたEUVリソグラフィーマシンです。そのため、日本は高度なプロセスの研究開発にキヤノンを含めました。

日本にとって、半導体チップ製造に波を起こしたいのであれば、自信を持っていることを示しています。同時に、富岳の「スーパーコンピューティング」に搭載された富士通の48コアArmチップA64FXとSocionext 5nmチップの超性能は、日本も先進チップに強みを持っていると述べています。

中国紙 快科技 2021/3/25 ソース中国語 "2nmプロセスが日本で出ています！長年蓄積されたこの強さ、強すぎる"
https://news.mydrivers.com/1/747/747197.htm